دراسة تأثير ثخانة كاشفي ZnO وZnS(Ag) على استجابتهما في الكشف عن جسيمات ألفا

الملخص

يهدف هذا البحث بشكلٍ أساسيٍّ إلى دراسة العلاقة بين تغيُّر ثخانة كلّ من كاشف ZnO وكاشف ZnS(Ag) وبين الومضان الإشعاعيّ الصّادر عن كلّ منهما عند تعريضهما لجسيمات ألفا. جرى تحضير كواشف ومَّاضة من مركّب ZnO بثخانات تتراوح بين(1 to 14.5) µm، وكواشف من مركّب ZnS(Ag) بثخانات تتراوح بين (0.3 to 38) µm، وذلك بطلي كلّ مركّب على شرائح بلاستيكيّة شفّافة نفوذة للفوتونات الضّوئيّة. جرى تعريض هذه الكواشف المختلفة لجسيمات ألفا الصّادرة عن نظير ²⁴¹Am، ثمَّ جرت دراسة الومضان الإشعاعيّ الصّادر عن كلّ من الكاشفين الومَّاضين باستخدام نظام العدّ النّوويّ (AB5) المصنّع من قبل شركة Pylon Electronics Inc. بيَّنت النّتائج أنَّ كاشف ZnS(Ag) يبدي ثباتيّة في الكفاءة والاستجابة لجسيمات ألفا وذلك من أجل مجال واسع من الثّخانات يتراوح بين (4 to 38) µm على عكس كاشف ZnO الّذي تكون أعلى استجابة وكفاءة له ضمن مجال صغير ومحدود من الثّخانات يتراوح بين (2.5 to 5.5) µm  أمّا خارج هذا المجال فتصبح استجابته منخفضّة بشكل ملحوظ.